實驗電爐CVD系統(tǒng)什么意思?CVD是Chemical Vapor Deposition的簡稱,是指高溫下的氣相反應(yīng),例如,金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸?,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無機(jī)材料的方法。
真空CVD系統(tǒng)簡稱CVD系統(tǒng),CVD系統(tǒng)由供氣系統(tǒng)+管式爐+抽氣系統(tǒng) ,額定溫度可以達(dá)到1200度、1400度、1700度,加熱區(qū)間可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等,極限真空可以達(dá)到10-3Pa,供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計或浮子流量計,混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合
1700度管式爐
這款CVD系統(tǒng)是由8路供氣系統(tǒng)+SGM1200雙溫區(qū)管式爐+真空系統(tǒng)組成
SGM1200雙溫區(qū)管式爐:以硅碳棒或電爐絲為加熱元件,有兩個加熱區(qū),采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和宇電控溫儀表,每個加熱區(qū)能進(jìn)行30段程序控溫,移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,爐管兩端裝有304不銹鋼法蘭,不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表,抽真空時真空度能夠達(dá)到10-3 Pa,該爐為臥式,兩個溫區(qū)可以獨立控制、設(shè)置不同的溫度,使用方便,操作簡單。該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點,是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品.。
實驗室想買一套CVD的設(shè)備請問管式爐什么牌子?洛陽西格馬高溫電爐專業(yè)生產(chǎn)CVD管式爐CVD實驗真空爐。
1200℃單溫區(qū)CVD系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù):
1200℃管式爐CVD系統(tǒng) | |
單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū) | |
SGM- CVD-12L | |
1200℃ | |
420mm | |
210mm | |
Φ50/Φ60/Φ80/Φ100mm | |
2.5Kw | |
220V | |
廈門宇電 控溫系統(tǒng)50段程序控溫; | |
±1℃ | |
<1200℃ | |
密封法蘭與管件連接的地方采用多環(huán)密封技術(shù),在密封法蘭與管外壁間形成了密封,在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效,該密封法蘭的安裝只需在*次使用設(shè)備的時候安裝 | |
質(zhì)量流量計 | |
3路(可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量) | |
0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分,可選配)氮氣標(biāo)定 | |
±1%F.S | |
≤4sec | |
5-45℃ | |
進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力) | |
采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數(shù)顯真空測量儀 | |
中真空 | |
10Pa-100Pa | |
雙級機(jī)械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/S,出氣口配有油污過濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw | |
340×580×555mm | 480×770×605mm |
530x1440x750mm | |
230kg |