【上海沃瓏儀器】Tekmar Fusion紫外-過硫酸鹽氧化總有機碳分析儀(TOC)，符合EPA 415.1-415.3和ASTM D4779標準，采用靜壓濃度技術(shù)和非色散紅外檢測(NDIR)，，廣泛應用在醫(yī)藥和環(huán)境行業(yè)。
Fusion TOC分析儀主要用于測定液體中的碳含量，采用安全的紫外線來提高過硫酸鹽的氧化能力，利用NDIR檢測器檢測CO2含量，檢測范圍可以從ppb級到ppm級。在不同的檢測模式下，測量不同形式的碳含量，包括總碳(TC)，無機碳(IC)，總有機碳(TOC=TC-IC)，不可吹出有機碳(NPOC)。
功能和特點
- 鹵素清除器：鹵素清潔器在CO2進入檢測器之前去除CO2中的氯以及其他鹵素，預防了由鹵素帶來的分析誤差。
- 紫外氧化反應室：樣品在紫外氧化反應室被過硫酸鹽在紫外燈的作用下氧化成碳。另外紫外氧化反應室提高了樣品轉(zhuǎn)化率，同時提高了氧化劑與水樣分散的作用；
- 注射器：注射器根據(jù)不同的方法可以精確控制樣品進樣體積在2mL~10mL，范圍可達125μL~25mL
- 無機碳吹掃室：樣品進入無機碳吹掃室，加酸后生成無機碳，被氣流吹掃清除；
- 水分控制系統(tǒng)（MCS）：Fusion水分控制系統(tǒng)由氣液分離器和滲透式干燥器組成，充分保證結(jié)果不受水蒸氣的干擾；
- 隔膜：Fusion的樣品瓶都帶有隔膜，減少了樣品暴露在空氣中的時間，保證結(jié)果的準確性；
- 自動進樣器：Fusion標配75位40mL試樣瓶的自動進樣器，同時提供90位，55mL或者120位，20mL的自動進樣器；
- 質(zhì)量流量控制器（MFC）：根據(jù)不同的操作模式來控制氣體流動狀態(tài)，在自動控制流量的同時，自動監(jiān)測儀器是否存在泄漏的情況；
- 智能稀釋功能：當系統(tǒng)發(fā)現(xiàn)樣品含量超過線性范圍時，系統(tǒng)將自動稀釋樣品濃度至線性范圍。同時，具備對于預設(shè)范圍的單個樣品分析能力（僅僅針對于沒有稀釋的方法）；
- 自動標準曲線：根據(jù)線性濃度的要求，系統(tǒng)自動稀釋溶液至最終濃度；減少人工配制標準溶液的誤差，同時提高分析效率；
- 靜壓濃度（SPC）：樣品氧化之后，進入非色散紅外檢測器(NDIR)，通過載氣加壓讓全部樣品進入檢測器，保證結(jié)果的準確性；
- 自動清洗系統(tǒng)： 每次重復檢測時，自動清洗樣品反應室；
- 人性化的操作界面：Tekmar TOC TeklinkTM軟件允許客戶編輯、上傳和下載所有的參數(shù)和方法。軟件一旦激活將連續(xù)監(jiān)控系統(tǒng)，以保證沒有超出操作限制。同時，軟件具備一系列有效的自我診斷功能。例如：泄漏測試、基準測試等。
規(guī)格參數(shù)
| 工作原理 | 紫外-過硫酸鹽光化學氧化1 |
| 檢測器 | 靜壓濃度-非色散紅外檢測器（NDIR） |
| 分析模式 | TOC（NPOC）,TC~IC,TC,IC |
| 分析指標 | 檢出限：0.2ppb；測量濃度：4000ppm（取決于樣品體積和稀釋程度）；
殘留：=1%交叉污染； 精度*：=1.0% RSD，±2ppb或±0.02μgC，典型的中等標準范圍內(nèi)（重復測試7次以上） *分析結(jié)果受實驗用水、試劑、氣體純度、樣品瓶潔凈度、樣品、氣體調(diào)節(jié)器潔凈度和精度、操作者技術(shù)這些因素影響。 |
| 分析時間 | 典型TOC分析4~8min，典型三聯(lián)TOA分析12~22min |
| 控制器 | PC，windows XP或更高系統(tǒng) |
| 21 CFR Part 11軟件控制 | TOC TeklinkTM軟件符合21 CFR Part 11要求 |
| 數(shù)據(jù)處理 | 預先定義的行業(yè)標準方法和用戶的自定義方法；樣品可中斷優(yōu)先級；
可顯示NDIR檢測器數(shù)據(jù)的實時和歷史圖形； XML和HXML的報告輸出格式； 可以在一個圖像內(nèi)查看多個歷史記錄。 |
| 校準 | 自動根據(jù)單獨內(nèi)部儲存標準校準或按照用戶標準校準；多點（線性或二次）和自動空白；
整個儀器分析范圍內(nèi)可以用一條標準曲線或者空白校準； 自動檢查內(nèi)部儲存標準或用戶設(shè)定的標準： -標準通過/不通過； -決策控制失敗時選擇暫停、重新校準或者繼續(xù)。 |
| 其他特性 | 具備適合性能測量的自動系統(tǒng)；樣品/標準品自動稀釋；
可用驗證支持包； 預裝的程序控制和點擊設(shè)置方法； 可編程的流量、壓力監(jiān)控； 自動檢漏； 自動關(guān)機/待機； 自動清洗系統(tǒng)會每次重復檢測時，自動清洗樣品反應室； 智能稀釋。 |
| 環(huán)境溫度、濕度 | -20~49℃，10~90% |
| 電源 | 220V,50Hz |
| 尺寸 | 46 cm×62 cm×81 cm (W×D×H) |
| 載氣 | 99.99%純度氮氣；99.5%純度以上氮氣（連接小型氮氣發(fā)生器） |
| 載氣進口壓力 | 65~100psi |
| 3Q認證 | 具備3Q認證證書及服務（根據(jù)用戶需要配置） |
| 標準方法 | ·ASTM D4839, D4779 ·Standard Method 5310C ·EPA 415.1,415.3,9060A·prENV 13370 ·EP 2.2.44 ·USP 23<643> |
1：UV燈含汞，請不要當垃圾丟棄，按照危險廢棄物的方式回收或處置。
| 工作原理 | 紫外-過硫酸鹽光化學氧化1 |
| 檢測器 | 靜壓濃度-非色散紅外檢測器（NDIR） |
| 分析模式 | TOC（NPOC）,TC~IC,TC,IC |
| 分析指標 | 檢出限：0.2ppb； 測量濃度：4000ppm（取決于樣品體積和稀釋程度）； 殘留：=1%交叉污染； 精度*：=1.0% RSD，±2ppb或±0.02μgC，典型的中等標準范圍內(nèi)（重復測試7次以上） *分析結(jié)果受實驗用水、試劑、氣體純度、樣品瓶潔凈度、樣品、氣體調(diào)節(jié)器潔凈度和精度、操作者技術(shù)這些因素影響。 |
| 分析時間 | 典型TOC分析4~8min，典型三聯(lián)TOA分析12~22min |
| 控制器 | PC，windows XP或更高系統(tǒng) |
| 21 CFR Part 11軟件控制 | TOC TeklinkTM軟件符合21 CFR Part 11要求 |
| 數(shù)據(jù)處理 | 預先定義的行業(yè)標準方法和用戶的自定義方法； 樣品可中斷優(yōu)先級； 可顯示NDIR檢測器數(shù)據(jù)的實時和歷史圖形； XML和HXML的報告輸出格式； 可以在一個圖像內(nèi)查看多個歷史記錄。 |
| 校準 | 自動根據(jù)單獨內(nèi)部儲存標準校準或按照用戶標準校準； 多點（線性或二次）和自動空白； 整個儀器分析范圍內(nèi)可以用一條標準曲線或者空白校準； 自動檢查內(nèi)部儲存標準或用戶設(shè)定的標準： -標準通過/不通過； -決策控制失敗時選擇暫停、重新校準或者繼續(xù)。 |
| 其他特性 | 具備適合性能測量的自動系統(tǒng)； 樣品/標準品自動稀釋； 可用驗證支持包； 預裝的程序控制和點擊設(shè)置方法； 可編程的流量、壓力監(jiān)控； 自動檢漏； 自動關(guān)機/待機； 自動清洗系統(tǒng)會每次重復檢測時，自動清洗樣品反應室； 智能稀釋。 |
| 環(huán)境溫度、濕度 | -20~49℃，10~90% |
| 電源 | 220V,50Hz |
| 尺寸 | 46 cm×62 cm×81 cm (W×D×H) |
| 載氣 | 99.99%純度氮氣；99.5%純度以上氮氣（連接小型氮氣發(fā)生器） |
| 載氣進口壓力 | 65~100psi |
| 3Q認證 | 具備3Q認證證書及服務（根據(jù)用戶需要配置） |
| 標準方法 | ·ASTM D4839, D4779 ·Standard Method 5310C ·EPA 415.1,415.3,9060A ·prENV 13370 ·EP 2.2.44 ·USP 23 |
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