脫硝工藝中的氨逃逸監(jiān)測(cè)

什么是氨逃逸？

在實(shí)際應(yīng)用中，盡管通常NOx和NH3之間的反應(yīng)效率可以大于95％，但NOx和NH3之間的反應(yīng)從來(lái)都不會(huì)是***的?？偸菚?huì)有一股殘留的NH3隨煙氣排放。這種未反應(yīng)的NH3被稱(chēng)為氨逃逸量。

氨逃逸量過(guò)高或過(guò)低都會(huì)產(chǎn)生問(wèn)題：

當(dāng)噴氨不足時(shí)，脫硝效率不足，無(wú)法滿足污染物排放控制的要求。但是，如果噴氨量過(guò)大，氨逃逸率過(guò)高，會(huì)造成下游空氣預(yù)熱器中氨鹽形成的堵塞，會(huì)導(dǎo)致排煙不暢，爐膛超壓，或者下游煙道腐蝕加劇。因此，氨逃逸量是脫硝裝置必須控制的。

可調(diào)諧二極管激光器（TDL）是一種使用吸收光譜法直接測(cè)量NH3濃度的技術(shù)。使用這種技術(shù)的好處在于可以在熱濕條件下提取和測(cè)量樣品，這意味著不需要額外去除水分?？烧{(diào)諧二極管激光光譜學(xué)采用窄帶激光來(lái)識(shí)別近紅外光譜中的目標(biāo)氣體吸收線。該方法對(duì)于鑒定所需分子具有高度選擇性，并且可以提供非?？斓捻憫?yīng)時(shí)間。

• 稀釋系統(tǒng)大大提高了系統(tǒng)的可靠率，降低了系統(tǒng)運(yùn)營(yíng)和維護(hù)成本

• 根據(jù)美國(guó)的調(diào)查，稀釋系統(tǒng)的平均運(yùn)營(yíng)成本只有直接采樣系統(tǒng)的1/3 到1/2

• 采用探頭內(nèi)瞬間稀釋技術(shù)，***消除冷凝水影響，無(wú)需跟蹤加熱采樣管線

• 稀釋后煙氣含水量被降低到露點(diǎn)以下，采樣管無(wú)需加熱或保溫

• ***避免因?yàn)榻Y(jié)露而對(duì)儀器產(chǎn)生的可能損壞

• 稀釋技術(shù)解決了煙氣含塵量高而引有的堵塞問(wèn)題

• 煙氣采樣流速只是直接采樣系統(tǒng)的50分之一到100分之一，相應(yīng)煙氣中含塵量也只是50分之一到100分之一

• 系統(tǒng)可同時(shí)得到NO、NO2、NOx、NH3讀數(shù)

• 采用從采樣探頭開(kāi)始的全系統(tǒng)動(dòng)態(tài)校準(zhǔn)，包括NO、NOx、NH3都可以實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)全程校準(zhǔn)

• 采用***的探頭設(shè)計(jì)，解決NH3結(jié)晶、溶解、吸附、接觸反應(yīng)問(wèn)題

• 樣品氣傳輸快，維護(hù)工作量小，消耗品用量少

歡迎致電