單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

　　　　　　　　　　　　　　　　單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

產品描述：

該爐由_{TL1200真空管式爐}、石英真空室、射頻電源、_{GX供氣系統(tǒng)}、_{抽氣系統(tǒng)}、真空測量系統(tǒng)組成。采用雙層殼體結構，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，抽真空時真空度能夠達到10^-3Pa。該爐安裝有行程開關，當爐蓋打開時會自動切斷電源。該爐通過射頻電源把石英真空室內的氣體變?yōu)殡x子態(tài)?？梢酝ㄟ^射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高所需的溫度更低。

技術參數(shù)：

1.額定溫度：1100℃                        2.溫度：1200℃                          3.電壓：220V

4.加熱元件：瑞典Kanthal-A1電阻絲        5.熱電偶：K型

6.溫控方式：智能化30段可編程控制         7._射頻電源：詳細參數(shù)請點擊鏈接地址

8.升溫速率：≤20℃/min 推薦升溫速率：≤10℃/min

9.真空法蘭和接頭：請咨詢相關業(yè)務人員           

10.質量流量計： 請咨詢相關業(yè)務人員