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特殊工藝用光刻膠

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公司名稱(chēng)深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/7/22 20:51:21
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專(zhuān)業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化，為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有：德國(guó)ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機(jī)，電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī)，紫外光刻機(jī)，微納3D打印機(jī)，德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積，英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，微波離子沉積機(jī)MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)，電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈，美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管，德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學(xué)/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實(shí)驗(yàn)耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

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電子顯微鏡

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德國(guó)Allresist 特殊工藝用光刻膠，電子束曝光導(dǎo)電膠，耐酸堿保護(hù)膠，聚酰亞胺膠（耐高溫保護(hù)膠），全息光刻用膠，長(zhǎng)波曝光膠，深紫外曝光膠等特殊工藝用膠

特殊工藝用光刻膠產(chǎn)品信息

德國(guó)Allresist 特殊工藝用光刻膠

Special manufacture/experimental sample

型號(hào)		特性
導(dǎo)電膠 AR-PC 5090 AR-PC 5091 NEW!		電子束曝光用導(dǎo)電層，不含光敏物質(zhì)。在絕緣襯底上做電子束曝光時(shí)，為了避免電荷累積，大家通常會(huì)選擇涂一層導(dǎo)電膠，來(lái)消除電荷累積。在正常的曝光結(jié)束后，導(dǎo)電膠會(huì)溶于水中，非常容易去除，不會(huì)影響正常的電子束曝光工藝。
AR-BR 5400		雙層Lift-Off工藝底層膠可以得到穩(wěn)定的Lift-off結(jié)構(gòu)，利于金屬的沉積。在制作雙層工藝時(shí)，需要和正膠AR-P 3500或AR-P 3500T配合使用。從270nm到紅外區(qū)，有良好的光學(xué)透明性，熱穩(wěn)定性好。
AR-PC 500		耐酸堿保護(hù)膠在酸堿中有很好的耐刻蝕性能，不含光敏物質(zhì)。尤其在堿性環(huán)境（40% KOH）中非常穩(wěn)定。一般涂于襯底背面，防止刻蝕工藝中的化學(xué)物質(zhì)損害其背面結(jié)構(gòu)。503顏色為黑色，較504耐刻蝕性能稍弱。
SX AR-PC 5000/40		耐酸堿保護(hù)膠在酸堿中有很好的耐刻蝕性能，不含光敏物質(zhì)。在40%的KOH和50%的HF中，具有很好的保護(hù)作用的，耐刻蝕時(shí)間可以長(zhǎng)達(dá)數(shù)小時(shí)。另外，還可以和正膠配合使用，通過(guò)雙層工藝來(lái)制作圖形。
AR-P 5910		耐HF酸刻蝕光刻膠，正膠對(duì)基底有很好的粘附性，一般用于低濃度的HF，在5% 以下的HF 酸中有很好的保護(hù)作用。
X AR-P 5900/4		耐堿刻蝕光刻膠，正膠主要用于耐堿刻蝕以及保護(hù)層。光刻膠可以在2n（2mol/L）的NaOH中可以穩(wěn)定很長(zhǎng)時(shí)間。
SX AR-PC 5000/80		聚酰亞胺光刻膠，不含光敏物質(zhì) 熱穩(wěn)定性光刻膠，在400℃時(shí)仍然很穩(wěn)定。不含光敏物質(zhì)，但是可以和正膠配合使用，通過(guò)雙層工藝來(lái)制作圖形?？梢杂糜谥谱鱾鞲衅鞑牧?、保護(hù)層及絕緣層。
SX AR-PC 5000/82		聚酰亞胺光刻膠，紫外正膠熱穩(wěn)定性光刻膠，正膠，在400℃時(shí)仍然很穩(wěn)定。具有良好的耐等離子刻蝕性能，可用于離子注入工藝。
X AR-P 5800/7		深紫外曝光膠，正膠深紫外曝光（248 - 265 nm 和300 - 450 nm），在這個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)，光刻膠的透射率高。耐刻蝕性能好。適合接觸曝光，曝光過(guò)程中，產(chǎn)生的氮?dú)馍?，可以提高圖形質(zhì)量。
SX AR-P 3500/6	全息曝光用膠，正膠在長(zhǎng)波段具有很好的靈敏度，敏感波段為（308 – 500nm），主要用于全息曝光工藝。
SX AR-N 4810/1	有機(jī)溶劑顯影光刻膠（用于無(wú)水環(huán)境），負(fù)膠基于PMMA的負(fù)膠，曝光波長(zhǎng)230 – 440nm。主要用于工藝中襯底材料對(duì)水敏感，需要無(wú)水環(huán)境操作的情況。采用有機(jī)溶劑顯影，避免了水或潮氣對(duì)襯底材料的破壞。
SX AR-P 8100.04/1 NEW!	PPA直寫(xiě)膠適用于熱探針直寫(xiě)及電子束曝光，高分辨率（10nm），無(wú)需顯影過(guò)程，涂膠厚度：100nm@4000rpm ，200nm@1000rpm 。不含光敏物質(zhì)，無(wú)需黃光室。

配套試劑
（Process chemicals）

類(lèi)型	型號(hào)	特性
顯影液	AR 300-26, -35	紫外光刻膠用顯影液
	AR 300-44,-46,-47, -475	紫外/電子束光刻膠用顯影液
	AR 600-50,-51,-55,-56	PMMA膠用顯影液
定影液	AR 600-60,-61	電子束光刻膠用定影液
除膠劑	AR 300-70, -72, -73,600-70	紫外/電子束光刻膠用除膠劑
稀釋劑	AR 600-01…09	PMMA膠稀釋劑
稀釋劑	AR 300-12	紫外/電子束光刻膠用稀釋劑
增附劑	AR 300-80, HMDS	紫外/電子束光刻膠用增附劑