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JEBG大功率電子槍?電源

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/16 21:15:46
  • 訪問次數(shù)791
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
日本電子JEOL大功率電子槍?電源EBG-300UA,JEBG-1000UB,JEBG-3000UB,是用來在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源,能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續(xù)、高速率地鍍膜,還可應(yīng)用于電子束熔煉,用于高熔點(diǎn)金屬鑄錠的制備及精煉。
JEBG大功率電子槍?電源 產(chǎn)品信息

日本電子JEOL大功率電子槍?電源EBG-300UA,JEBG-1000UB,JEBG-3000UB

JEBG系列大功率電子槍是用來在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源,能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續(xù)、高速率地鍍膜,還可應(yīng)用于電子束熔煉,用于高熔點(diǎn)金屬鑄錠的制備及精煉。

產(chǎn)品規(guī)格:

型號(hào)

EBG-300UA

JEBG-1000UB

JEBG-3000UB

輸出功率

30kW

(20kV, 1.5A)

100kW

(30kV, 3.4A)

300kW

(40kV, 7.5A)

偏轉(zhuǎn)角

Max. ±30°

掃描范圍

X, Y 軸

掃描頻率

300Hz

200Hz

200Hz

(300Hz: 選配)

適用電源

ST-30BE2

JST-100C

JST-300CHR

產(chǎn)品特點(diǎn):

JEBG系列大功率電子槍是用來在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源,能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續(xù)、高速率地鍍膜,還可應(yīng)用于電子束熔煉,用于高熔點(diǎn)金屬鑄錠的制備及精煉。


電子束能大范圍地快速掃描,通過專用的控制裝置和軟件,能生成各種電子束照射圖形和區(qū)域。由于能夠在各個(gè)照射位置上設(shè)定掃描、停留時(shí)間、輸出功率及電子束形狀,因而能夠控制熔融面和膜厚分布。


用途

· 真空蒸鍍
阻隔膜、保護(hù)膜、電極膜、導(dǎo)電膜、磁性膜等薄膜的形成。

· 真空熔解
Ti、Ta、Nb、 Mo等高熔點(diǎn)金屬鑄錠的制備及精煉。
提煉太陽(yáng)能電池的多晶硅

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