一、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備概述：
電去離子（EDI）技術(shù)有機(jī)結(jié)合了電滲析與離換技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)，以初級(jí)純水（如反滲透水）作為，可直接生產(chǎn)高純水，實(shí)現(xiàn)了去離子過(guò)程連續(xù)填充的離子交換材料自動(dòng)再生。EDI與電滲析的不同之處在于淡室中填充了離子交換材料，因而填充材料的選擇是EDI關(guān)鍵技術(shù)之一。
二、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備工作原理：
高純度水對(duì)許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統(tǒng)和膜處理過(guò)程作為預(yù)處理過(guò)程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來(lái)越流行。如電除鹽過(guò)程（EDI）之類(lèi)的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且，膜處理過(guò)程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡(jiǎn)單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過(guò)程是膜處理過(guò)程中增長(zhǎng)比較快的業(yè)務(wù)之一。EDI是帶有水槽的非反向電滲析（ED），這個(gè)水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹(shù)脂。EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。
三、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備與傳統(tǒng)的離子交換制取純水技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)：
1、不需使用化學(xué)再生藥劑，生產(chǎn)過(guò)程無(wú)任何污染，屬清潔生產(chǎn)；
2、再生不需停機(jī)，能連續(xù)生產(chǎn)質(zhì)量穩(wěn)定的高純水（15～18M?·cm）；
3、耗電少，水利用率高；
4、設(shè)備運(yùn)行安全可靠，維護(hù)簡(jiǎn)單；運(yùn)行費(fèi)用低；占地面積小，節(jié)約場(chǎng)地建設(shè)費(fèi)用。
四、EDI高純水設(shè)備/EDI高純水制取設(shè)備/EDI裝置/EDI水處理設(shè)備的主要作用和適用范圍：
一般的市政供水中，存在著多種鹽的溶解物，如鈉、鎂、鈣等氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等。這些鹽分以陰、陽(yáng)離子的形式存在水中。采用反滲透裝置（RO 裝置）一般可脫除水中 99％的離子，水的電導(dǎo)率可降到5～20μS/cm，即電阻率達(dá)到0.05～0.2M?·cm。但水中一些溶解的氣體和其他弱電解質(zhì)（例如二氧化硅）難以被除掉，這些雜質(zhì)在某些水質(zhì)要求較高的行業(yè)須除掉。如電子工業(yè)、科研實(shí)驗(yàn)室、檢驗(yàn)分析行業(yè)常使用電阻率＞18M?·cm的超純水，化工、發(fā)電、電鍍行業(yè)常使用電阻率＞15M?·cm的高純水，精細(xì)化工和制藥行業(yè)常使用電阻率＞5M?·cm的純水，食品飲料行業(yè)常使用電阻率＞0.5M?·cm的初純水。EDI設(shè)備在這些對(duì)水質(zhì)要求較高的領(lǐng)域中，具有廣泛的應(yīng)用市場(chǎng)。在使用RO反滲透水的前提下，EDI可以直接將RO反滲透產(chǎn)水提純到純水、高純水、超純水的標(biāo)準(zhǔn)。使水的電阻率提升到 5～18M?·cm。
相關(guān)搜索：EDI電阻率下降的原因 EDI裝置操作維護(hù)手冊(cè) EDI裝置與混合離子陽(yáng)陰床的比較(操作分析）
本文關(guān)鍵詞: 東莞水處理設(shè)備 EDI裝置 高純水處理設(shè)備
本文網(wǎng)址: /products_content-1120564.html
*版權(quán)所有*，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處，并以鏈接形式鏈接網(wǎng)址 :
采購(gòu)中心
