電子廠超純水設(shè)備
電子廠超純水設(shè)備概述
設(shè)備是采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法,將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備;是電子廠生產(chǎn)用超純水制備*的裝置。
電子行業(yè)高純水設(shè)備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計算機(jī)硬盤、線路板等工藝所需的純水和超純水制備。在嚴(yán)格執(zhí)行ISO-9001質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)的前提下,采用高品質(zhì)的反滲透膜元件。壓力容器和高壓泵、配以合理而又高效的前處理設(shè)備及后處理設(shè)備,使產(chǎn)品出水符合各類電子行業(yè)生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的超純水??刂葡到y(tǒng)選用PLC程序控制,可實現(xiàn)自動起停、加藥及沖洗,自動監(jiān)測各種運行參數(shù),并可實現(xiàn)運行參數(shù)的儲存及打印廣泛適用于: 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學(xué)試劑光導(dǎo)纖維、光盤等。
目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。 半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質(zhì)的要求也越高。
連續(xù)電除鹽(EDI,Electro deionization或CDI,continuous electrode ionization),是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子,同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下,分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。這一過程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的,因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置,生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。又可以比較清晰地描述如下:EDI是利用陰、陽離子膜,采用對稱堆放的形式,在陰、陽離子膜中間夾著陰、陽離子樹脂,分別在直流電壓的作用下,進(jìn)行陰、陽離子交換。而同時在電壓梯度的作用下,水會發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-,這些H+和OH-對離子膜中間的陰、陽離子不斷地進(jìn)行了再生。由于EDI不停進(jìn)行交換——再生,使得純水度越來越高,所以,輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的超純水。
液晶電子化工用EDI高純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人值守,同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法,使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用主流可靠產(chǎn)品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統(tǒng)自動化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本,水利用率高,運行可靠,經(jīng)濟(jì)合理。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
設(shè)備優(yōu)點
1、 產(chǎn)水水質(zhì)符合標(biāo)準(zhǔn),穩(wěn)定
2、 不間斷制水,再生時不需要停機(jī)處理。
3、 處理過程中不需要化學(xué)的藥劑再生。
4、 堆疊式設(shè)計,占地面積小。
5、 操作簡單,安全。
6、 運行費用低,維修費用低。
7、 無酸堿儲備及運輸費用。
8、 全自動運行,無需專人看管。