光解催化氧化技術(shù)原理
一、利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、二甲苯的分子鍵。
二、利用高臭氧分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧,使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無(wú)害或低害的化合物。如CO2、H2O等。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。
三、利用特制的催化劑進(jìn)行氧化還原反應(yīng);運(yùn)用高能UV紫外線光束、臭氧及催化劑對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
光解催化氧化設(shè)備性能特點(diǎn) 山東uv光解除臭設(shè)備
1、高效除惡臭:能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)及各種惡臭味,脫臭效率可達(dá)99%以上。
2、無(wú)需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力。
3、適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,可每天24小時(shí)連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
4、運(yùn)行成本低:本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作,無(wú)噪音,無(wú)需專人管理和日常維護(hù)。
5、無(wú)需預(yù)處理:工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃~95℃之間,濕度在30%~98%、PH值在3-13之間均可正常工作。
6、設(shè)備占地面積小,自重輕:處理10000m3/h風(fēng)量設(shè)備占地面積<1平方米。
7、優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造:防火、防爆、防腐蝕性能高,設(shè)備性能安全穩(wěn)定。
8、環(huán)保高科技產(chǎn)品:采用上*技術(shù),可*分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì),并能達(dá)到*的脫臭效果,經(jīng)分解后的惡臭氣體,可*達(dá)到無(wú)害化排放,絕不產(chǎn)生二次污染。
山東uv光解除臭設(shè)備
離子除臭設(shè)備是由 離子發(fā)生器、離子發(fā)生管、控制系統(tǒng)組成、用來(lái)除臭、清除異味的空氣凈化設(shè)備,普遍應(yīng)用于新風(fēng)系統(tǒng)凈化、*空調(diào)室內(nèi)凈化、工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場(chǎng)所。常見的有等離子除臭設(shè)備、高能離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備、低溫等離子除臭設(shè)備、靜電除塵設(shè)備等等。
光解催化氧化設(shè)備適用范圍
惡臭氣體(工業(yè)廢氣)UV光氧凈化設(shè)備適用范圍:煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。